Para casa
>
produtos
>
Cvd diamantes cultivados em laboratório
>
|
|
| Place of Origin | China |
| Marca | INFI |
| Model Number | Cubes/Rectangles |
Cubos/retângulos de diamante de cristal único cultivados por CVD oferecem propriedades mecânicas excepcionais:
Extrema dureza e resistência ao desgaste
Alta resistência com módulo de elasticidade
Condutividade térmica superior
Baixo coeficiente de atrito
Estabilidade à corrosão/química
Resistência à adesão
Ideal para ferramentas de corte de precisão e ultraprecisão.
Aplicações Industriais:
Ferramentas de fresagem/corte
Trefilas para máquinas de trefilar arame
Lâminas cirúrgicas/oftálmicas/neurocirúrgicas
Ferramentas de afiação de diamante
Orifícios de bicos de jato de água
| Tamanho disponível | 2~20mm |
| Espessura disponível | 0,2mm - 3mm |
| Tolerância lateral | +0,15,-0mm |
| Tolerância de espessura | +0,1,-0,05mm |
| Orientação da face | {100}> ou {110} |
| Orientação Cristalográfica (Desvio) | ±3° |
| Acabamento da superfície | Polido, Ra<10nm |
| Bordas | Corte a laser |
| Corte a laser | <3° |
Orientação comum:
![]()
![]()
![]()
Tamanhos comuns:
| Tamanho do produto | Comprimento | Largura | Espessura |
| L303010 | 3.0 | 3.0 | 1.0 |
| L403010 | 4.0 | 3.0 | 1.0 |
| L503010 | 5.0 | 3.0 | 1.0 |
| L603010 | 6.0 | 3.0 | 1.0 |
| L703010 | 7.0 | 3.0 | 1.0 |
| L803010 | 8.0 | 3.0 | 1.0 |
| L903010 | 9.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1003010 | 10.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1103010 | 11.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1203010 | 12.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1303010 | 13.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1403010 | 14.0 | 3.0 | 1.0 |
| L1503010 | 15.0 | 3.0 | 1.0 |
Personalização:
Comprimento ajustável (≤20mm), largura (≤7mm)
Opções de espessura: 0,1, 0,2, 0,3, 0,4, 0,5, 0,6, 0,7, 0,8, 0,9, 1,2, 1,5, 1,7, 2,0mm
Orientações e formatos de cristal sob medida
Definição de Diamante CVD:
O diamante sintético (diamante cultivado em laboratório/CVD/deposição química de vapor) é produzido artificialmente em comparação com a formação geológica natural. Os métodos de produção incluem:
HPHT: Alta pressão e alta temperatura (5 GPa, 1500°C) usando prensas pesadas
CVD: Deposição de plasma de carbono em substratos em <27 kPa pressure
Vantagens do CVD: Crescimento em grandes áreas, versatilidade do substrato, controle preciso de impurezas.
Contacte-nos a qualquer hora